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   拋光液的主要特點：拋光液具有金屬雜質沾污極少、易清洗、加工效率高、損傷層小、平整度高等特點。在CMP加工中根據需要可以優化不同配比，均能達到最佳使用效果。與國內外同類產品相比，該產品具有濃縮度高、磨料粒徑小、表面張力小、有機物、金屬離子及顆粒沾污少、加工效率高、高溫不出現非均勻蝕坑等優點。
   拋光液的主要用途：主要用于多重擴散硅片的高質量拋光，也可用于原始鍺、石英、二氧化硅、藍寶石等材料的拋光工藝，還可用于擴散片的拋光。