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   拋光液的用途：用于藍寶石晶片，砷化鎵片，玻璃硬盤, 單晶硅片及半導體化合物晶片等表面拋光。特性：考慮到晶體拋光的需要，拋光液特別設計了一套制造40-60納米左右-堅實，圓形，顆粒分布均勻的高穩定二氧化硅溶膠工藝，并配制有改善晶體表面質量的特種試劑，故能得到很高的拋光質量和較高的拋光速度。1、拋光液適用于各種加工方式，拋光液具有拋光效率高、使用壽命長的特點。2、拋光液光潔度高，懸浮性強，易清洗。3、建議與去離子水的稀釋比例為1至15倍，最終拋光濃度客戶根據產品需要決定。